調達情報
| 受注日 | 事業名 | 調達金額 | 連名 | 調達情報の公表組織 |
|---|---|---|---|---|
| 2021/11/16 | 省エネエレクトロニクスの製造基盤強化に向けた技術開発事業半導体製造装置の高度化に向けた開発次世代不揮発性メモリ向け成膜装置の開発 | ￥436,582,300 | -------- | 国立研究開発法人新エネルギー・産業技術総合開発機構 |
法人番号：2020001079798
〒215-0033 神奈川県川崎市麻生区栗木２丁目５番１号
一般・産業用機器類 / 電気・通信用機器類 / 電子計算機 / 精密機器類 / その他
| 受注日 | 事業名 | 調達金額 | 連名 | 調達情報の公表組織 |
|---|---|---|---|---|
| 2021/11/16 | 省エネエレクトロニクスの製造基盤強化に向けた技術開発事業半導体製造装置の高度化に向けた開発次世代不揮発性メモリ向け成膜装置の開発 | ￥436,582,300 | -------- | 国立研究開発法人新エネルギー・産業技術総合開発機構 |
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営業品目
資本金
企業名・法人番号（13桁）